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半导体超纯水设施的工艺及其优势分析
点击次数:229 颁布时间:2018-09-25
  
  
  半导体是一种介于导体和绝缘体之间的原料,在半导体加工进程中需要使用水进行处置,该水质的要求比较高,不克含有任何离子杂质。半导体行业用超纯水设施采纳先进的制水技术,有效去除水中杂质,保证设施的出水水质。
  
  半导体超纯水设施的工艺分析:
  
  1、采纳离子交换树脂制备超纯水的传统水处置方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→周密过滤器→原水箱→阳床→阴床→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置周密过滤器→用水点。
  
  2、采纳反渗透水处置设施与离子交换设施进行组合的方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→周密过滤器→原水箱→反渗透设施→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置周密过滤器→用水点。
  
  3、采纳反渗透水处置设施与电去离子(EDI)设施进行搭配的的方式,这是一种制取超纯水的新工艺,也是一种环保,经济,开展潜力巨大的超纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→周密过滤器→原水箱→反渗透设施→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置周密过滤器→用水点。
  
  半导体超纯水设施各系统技术优势:
  
  1、可去除源水中的悬浮物。能大限度地消除污垢,提高出水水质和延长工作周期。
  
  2、能够去除水中的游离余氯、除臭、除油、去色、吸附有机物杂质,保证反渗透膜的进水水质。
  
  3、采纳先进的反渗透技术,使用压力差原理去除水中的盐类,设施的脱盐率可抵达99%左右。
  
  4、主要有不锈钢、炭钢和有机玻璃钢。
  
  
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